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      氫氧化鎂阻燃劑高速分散機

      氫氧化鎂阻燃劑高速分散機是將膠體磨和分散機一體化的設備,先研磨后分散機,因為氫氧化鎂分散到水中或者溶劑當中,會形成二級團聚體,軟團聚。

      • 產品型號:GMSD2000
      • 廠商性質:生產廠家
      • 更新時間:2024-09-17
      • 訪  問  量:1569
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      產品詳情

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      隨著高分子材料工業的發展,塑料、橡膠、纖維等合成高分子材料越來越廣泛的用于建筑、化工、軍事及交通等領域。但大部分高分子材料均易于燃燒,在很多應用領域中,需要添加阻燃劑以降低其燃燒性及燃燒速度,從而達到預防火災、減緩火勢蔓延的密度。近年來,高分子阻燃技術受到性的關注阻燃劑以及成為*于增塑劑的第二大高分子材料用助劑。

      作為重要的無極阻燃劑產品,氫氧化鋁和氫氧化鎂由于環境友好、阻燃性強而倍受人們青睞。與氫氧化鋁相比,氫氧化鎂具有熱穩定性高、成炭效率高和降酸能力強等特點??梢詮V泛的應用于聚丙烯、聚苯乙烯、聚氯乙烯及不飽和樹脂等高分子材料的阻燃和消煙。


      然而,要獲得超細的氫氧化鎂助燃劑混懸液就必須使用高品質的分散設備,傳統的分散設備,一方面無法將氫氧化鎂漿料進一步細化,另一方分散效果不佳。上海SGN結合多家阻燃劑廠家,可知,采用SGNGMSD2000系列研磨分散機對氫氧化鎂漿料進行進一步的研磨和分散,粒徑更小,分散更均勻。

       

      氫氧化鎂阻燃劑分散機是將膠體磨和分散機一體化的設備,先研磨后分散機,因為氫氧化鎂分散到水中或者溶劑當中,會形成二級團聚體,軟團聚。需要先將團聚體打開再進行分散。SGN研磨分散機二級工作組,轉速高達14000rpm,剪切力強,分散更*。

      GMSD2000系列研磨分散設備是SGN(上海)公司經過研究剛剛研發出來的一款新型產品,該機特別適合于需要研磨分散乳化均質一步到位的物料。我們將三級高剪切均質乳化機進行改裝,我們將三級變更為一級,然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經過膠體磨細化物料,然后再經過乳化機將物料分散乳化均質。膠體磨可根據物料要求進行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇)

      GMSD2000系列研磨分散機的結構:研磨式分散機是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產品。



      D一級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。      

      第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。

        
      的特點:

      ① 線速度很高,剪切間隙非常小,當物料經過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結果就是通常所說的濕磨

      ② 定轉子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

      ③ 定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離

      ④ 在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

      ⑤ 高質量的表面拋光和結構材料,可以滿足不同行業的多種要求。

       

      GMSD2000 三級乳化機參數表

      SGN高剪切乳化機選型表:

       

      標準流量(H2O)

      輸出轉速

      標準線速度

      馬達功率

      進出口尺寸

      型號

      l/h

      rpm

      m/s

      kW

       

      GMSD 2000/4

      400

      18000

      51

      4

      DN25/DN15

      GMSD 2000/5

      1500

      13500

      51

      7.5

      DN40 /DN 32

      GMSD 2000/10

      4000

      9257

      51

      22

      DN50 / DN50

      GMSD 2000/20

      10000

      3664

      51

      37

      DN80 /DN 65

      GMSD 2000/30

      60000

      1825

      51

      55

      DN150 /DN 125

       

       

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